Штамповочные штампы по металлу, Штампы для глубокой вытяжки, Формовочные штампы, Процессы штамповки и формовки

I. Точная диагностика типов проблем и обнаружение нарушений совместимости ингибиторов. Для аномалий золотого покрытия, вызванных неправильным выбором ингибитора, первопричину сначала необходимо точно определить путем наблюдения за дефектами покрытия. Если покрытие шершавое, утолщенное или почерневшее в областях с высоким-потенциалом, таких как края заготовки и острые углы, это указывает на слабый выбор ингибитора и недостаточные возможности выравнивания и подавления. Если тонкое покрытие, пропущенное покрытие или различия в цвете возникают в областях с низким-потенциалом, таких как отверстия и вогнутые поверхности, это происходит из-за чрезмерной силы подавления ингибитора и несбалансированного покрытия. Если ванна мутная, образует золотой порошок, имеет сильное смещение слоя никеля и высокие потери золотого материала, это вызвано несовместимостью ингибитора и системы золочения и недостаточной устойчивостью к смещению. Посредством трехмерной оценки дефектов внешнего вида, распределения толщины покрытия и состояния ванны можно быстро выявить такие основные проблемы, как несоответствие силы ингибитора, несоответствие типа и недостатки в рабочих характеристиках, что обеспечивает точную основу для последующего исправления.

II. Сопоставьте систему золотого покрытия с состоянием заготовки и повторно выберите адаптивные ингибиторы. Избегайте слепого выбора ингибиторов-общего назначения; вместо этого выбирайте ингибиторы, специально основанные на технологической системе золочения и структуре заготовки. Для кислотных цианидных систем золотого покрытия предпочтительны полиэфирные и гетероциклические композитные ингибиторы, обеспечивающие балансирование, предотвращение смещения и равновесное осаждение с высоким/низким потенциалом. Нейтральные, слабые системы цианидного золочения подходят для ингибиторов производных цитидина и пиридина для обеспечения стабильности ванны. В системах золотого покрытия, не содержащих цианид-, используются композитные ингибиторы на основе органических аминов, подходящие для мягких сред осаждения. В то же время выбор оптимизируется в зависимости от требований к заготовке: ингибиторы балансировки с низким-потенциалом используются для высокоскоростного-непрерывного нанесения покрытия на разъемы и клеммы; ингибиторы селективной адсорбции применяются для микроотверстий печатных плат и заготовок неправильной формы; и ингибиторы с низким-примесью и высокой-чистотой используются для прецизионного склеивания деталей с золотым покрытием, устраняя несоответствия выбора в источнике.

III. Стандартизируйте процессы регулировки ванны, чтобы быстро исправить дисбаланс ингибиторов. В случае дисбаланса ванны, вызванного неправильным выбором ингибитора, для устранения применяются стандартизированные процедуры регулировки на-объекте. Если ингибитор слишком слабый или выравнивание недостаточное, добавляйте агент небольшими и частыми порциями, контролируя однократное добавление на уровне 0,05–0,1 г/л. После тщательного перемешивания проверьте эффект с помощью клеточного теста Халла. Если ингибитор слишком сильный, что приводит к неполному покрытию или плохому покрытию с низким-потенциалом, концентрацию можно уменьшить, разбавив часть раствора покрытия и добавив свежий базовый раствор, или используя адсорбционную фильтрацию с активированным углем для удаления избытка органического ингибитора. Если тип ингибитора полностью не соответствует, резервуар необходимо тщательно очистить, заменить совершенно новый раствор для покрытия и снова добавить подходящий композитный ингибитор, чтобы предотвратить разложение раствора для покрытия и плохое покрытие, вызванное смешиванием агентов различных систем.

IV. Связанное управление параметрами процесса для создания долгосрочного-механизма предотвращения ошибок. Эффективность ингибитора зависит от стабильной технологической среды, требующей скоординированного контроля различных параметров золочения. Строго контролируйте pH, температуру и плотность тока гальванической ванны. Для кислого золочения поддерживайте pH 4,0–4,5 и температуру 40–50 градусов. При повышении температуры соответствующим образом уменьшите количество добавляемого ингибитора, чтобы избежать чрезмерной адсорбции, которая может повлиять на эффект покрытия. В зависимости от производственного ритма и текущей нагрузки регулярно и количественно пополняйте ингибиторы, чтобы избежать локального дисбаланса концентрации и неравномерного потребления реагентов. Одновременно установите ежедневные процедуры управления, проводите ежедневные тесты на клетках Халла для проверки эффекта гальванического покрытия, регулярно проверяйте содержание органических примесей в гальванической ванне, фильтруйте и очищайте ванну, а также постоянно используйте оригинальные реагенты, поставляемые-производителем, строго запрещая произвольные изменения или смешивание ингибиторов. Такой комплексный подход с точки зрения контроля производства полностью позволяет избежать проблем, связанных с неправильным выбором и использованием ингибиторов.